鈦靶材由鈦金屬制成鈦元素符號(hào) Ti ，原子序數(shù) 22 ，密度 4.454g/Cm3 ，物理性質(zhì)：熔點(diǎn) 1668℃，沸點(diǎn) 3262℃，比熱容 0.52（J /(Kg·K) ，蒸發(fā)熱 421（KJ/Mol），熔化熱 15.45（KJ/Mol），導(dǎo)電率 0.0234（106/Cm） 。由于高純鈦的成本相當(dāng)昂貴，應(yīng)用領(lǐng)域極其有限，主要用作半導(dǎo)體材料和超高真空裝置中的吸氣材料。鈦靶材供應(yīng)商加工的高純度鈦靶材具有吸氣性，特別是吸氫、CH4、Co2氣體，因此高純度鈦靶材能在高真空和超高真空系統(tǒng)中獲得廣泛應(yīng)用。用高純度鈦靶材濺射制作LSI、VLSI、ULSI的線路網(wǎng)時(shí)，可使這些集成件變得格外輕、薄、尺寸小而且線路密集。高純鈦靶材也可以用作阻擋層金屬材料。

寶雞鈦靶材廠家對(duì)于鈦靶材加工方法：

1、鈦靶材加工方法是采用電子束轟擊爐進(jìn)行電子束冷床熔煉提純后制成鈦錠，通過塑形變形及機(jī)械加工方法將鈦錠制成所需規(guī)格尺寸的鈦靶材，采用上述方法制成的鈦靶材純度高，所濺射制成的膜層厚度均勻，且比常規(guī)低純鈦靶鍍膜具有耐磨性強(qiáng)，附著力好的特點(diǎn)。

鈦靶材的其他合金形式

鈦鋁靶材、鈦鉻靶材、鈦鎳合金靶材等。